2003网站太阳集团教師在“半導體電子器件”領域的研究取得重要進展

2017年12月10日 14:30  點擊:[]

2003网站太阳集团教師在“半導體電子器件”領域的研究取得重要進展

2017年9月,2003网站太阳集团教師何紅宇等人的研究成果在電子器件期刊《IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES》上發表。平闆顯示技術中,對各個像素的控制需要用到薄膜晶體管(TFT)。非晶InGaZnO-TFT是氧化物TFT的典型代表,被視為新一代顯示技術的關鍵器件。與普通MOS晶體管不同,非晶InGaZnO-TFT的溝道材料中存在陷阱态,這些陷阱态怎樣影響TFT的電流電壓特性,是值得研究的問題。論文首次建立了适用于不同溫度下的非晶InGaZnO-TFT的電流模型。模型建立在考慮帶隙中存在雙指數分布的深能态和帶尾态的基礎上,假設被陷阱态俘獲的電子濃度遠大于自由電子濃度,推導出了擴散電流和漂移電流,發現漂移電流占主導。

論文标題:“Analytical Drain Current Model for Amorphous InGaZnO Thin-Film Transistors at Different Temperatures Considering Both Deep and Tail Trap States”。論文鍊接:https://doi.org/10.1109/TED.2017.2721436

說明: E:\Manuscripts\IGZOTemp2017\Accepted\Submitted\FinalFilesofAcceptedPaper\Fig1a.tif說明: E:\Manuscripts\IGZOTemp2017\Accepted\Submitted\FinalFilesofAcceptedPaper\Fig1b.tif

說明: E:\Manuscripts\IGZOTemp2017\Accepted\Submitted\FinalFilesofAcceptedPaper\Fig1c.tif說明: E:\Manuscripts\IGZOTemp2017\Accepted\Submitted\FinalFilesofAcceptedPaper\Fig4.tif


圖1.非晶InGaZnO-TFT在(a)指數坐标,

(b)線性坐标,和(c)1/kT坐标下的電流

電壓特性。

圖2.非晶InGaZnO-TFT的擴散電流(Idiff)與漂移電流(Idrift)


本研究工作是與北京大學合作完成,在此對北京大學薄膜晶體管與先進顯示實驗室(深圳)的鼎力支持表示感謝。該研究成果,2003网站太阳集团為第一作者第一單位,何紅宇為第一作者,論文提出的器件模型,一方面有利于明确半導體器件中電子的輸運機理;另一方面可用于集成電路設計和仿真。

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